Die hochreinen Graphitkeimbrocken von SIAMC werden häufig bei der Herstellung von Polysilizium in Elektronikqualität nach dem Siemens-Verfahren verwendet.Die Reinheitsanforderung an Samenstücke beträgt bis zu 5 ppm.Der Graphit von SIAMC erfüllt diese hohe Reinheitsanforderung und bietet eine hervorragende thermische Stabilität und Gleichmäßigkeit während des Polysiliciumwachstumsprozesses.Darüber hinaus können unsere Graphitprodukte an spezifische Kundenanforderungen hinsichtlich Form, Größe und Reinheit angepasst werden, was sie zu einer idealen Wahl für die Halbleiterfertigung macht.
