EPI und MOCVD

Die Graphitkomponenten und Isoliermaterialien von SIAMC werden aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und mechanischen Eigenschaften häufig in Halbleiter-Epitaxiegeräten eingesetzt.Bei epitaktischen Wachstumsprozessen wird hochreiner Graphit für die Komponenten des Heißwandreaktors wie Heizung, Suszeptor, Gasinjektor und Gasverteilerplatte verwendet.Der geringe Verunreinigungsgehalt der Graphitprodukte von SIAMC gewährleistet eine hohe Prozessreinheit und reduziert die Partikelbildung bei der Hochtemperaturverarbeitung.

Darüber hinaus werden die Isoliermaterialien von SIAMC zur Isolierung und Wärmeerhaltung in der Epitaxieausrüstung verwendet, um eine hohe Prozesstemperatur aufrechtzuerhalten und Wärmeverluste zu reduzieren.Diese Materialien verfügen über hervorragende Wärmedämmeigenschaften und eine hohe Temperaturbeständigkeit und gewährleisten so einen stabilen und effizienten Betrieb der Geräte.

Insgesamt spielen die Graphitkomponenten und Isolationsmaterialien von SIAMC eine entscheidende Rolle bei der Sicherstellung der Qualität und Ausbeute epitaktischer Wachstumsprozesse und machen sie daher für die Halbleiterfertigung unverzichtbar.